如何申请专利
您的位置: 首页 > 新闻中心 > 正文

南亚科技股份有限公司《防间隔工艺与半导体结构》由新创友代理成功获得发明专利权

   据2016年6月8日中国发明专利公报,南亚科技股份有限公司 《防间隔工艺与半导体结构》由新创友代理成功获得发明专利权。

   本发明公开了一种防间隔工艺以及通过防间隔工艺所产生的半导体结构。所述防间隔工艺包含:(a)提供包含不均匀形状的阻绝层;(b)涂布靶层在所述阻绝层上;(c)提供多个防间隔沟槽于所述靶层与所述阻绝层之间;以及(d)将所述多个防间隔沟槽的至少一部份连接在一起,以隔离所述靶层的第一部份与所述靶层的第二部份。所述防间隔工艺不需要使用切割掩膜或任何其它工艺来切割目标特征,因而节省了成本并且避免复杂的步骤。

   

   新创友,发明专利代理专家,

        电话:0755-88858101 /83671888

        传真:0755-83671968